Si vous avez déjà parcouru des listes de systèmes de lithographie et vous êtes demandé : "Lequel correspond réellement à mes besoins ?"-, vous n'êtes pas seul. Que vous fassiez du prototypage en laboratoire ou que vous mettiez à l'échelle une production industrielle, choisir le modèle de lithographie UV sans masque de Nice-tech revient à faire correspondre vos objectifs aux spécifications clés. Décomposons notre gamme pour simplifier votre choix.
Commencez par vos "must-haves"
Tout d’abord, répondez à deux questions pour affiner rapidement les options :
Quelle est la plus petite fonctionnalité dont j’ai besoin ? (Liens à la dimension critique/aux lignes/espaces minimum.)
À quelle vitesse dois-je produire ? (Se rapporte à la vitesse d'exposition.)
Tous nos modèles ignorent les masques physiques (grand pour la flexibilité !), mais ils sont optimisés pour la précision, la vitesse ou les grands substrats. Voici comment ils se comparent.
1. Recherche universitaire et précision des-petits lots : MLM 100
Pour les laboratoires universitaires ou les startups prototypant des microdispositifs (MEMS, microfluidique), l'UV Litho-ACA équilibre précision et efficacité spatiale.
Précision : dimension critique (CD) de 0,8 μm, lignes/espaces de 1,0 μm (idéal pour les travaux à l'échelle du laboratoire).
Vitesse : jusqu'à 100 mm²/min (trois options d'objectif-idéales pour les tests itératifs).
Espace : Compact 750 × 800 × 700 mm (320 kg), ne nécessite que 1,5 m × 1,5 m (convient aux petits laboratoires).
Bonus : niveaux de gris en option, prend en charge les formats GDS/DWG/DXF.
2. Exécutions industrielles de haute-précision : MLM 200
Lorsque les détails ultra-fins (capteurs avancés, puces haute-densité) et la cohérence sont importants, l'UV Litho-ACA Pro+ est à la hauteur.
Précision : CD de 0,4 μm, lignes/espaces de 0,8 μm, précision de superposition de 350 nm (structures multicouches nettes-).
Vitesse : jusqu'à 100 mm²/min (quatre lentilles-stables pour les petites-à-productions moyennes).
Avantage : niveaux de gris pris en charge (jusqu'à 4 096 niveaux) pour les microstructures 3D (par exemple, les micro-optiques).
Espace : surface de 2,2 m × 1,7 m (590 kg)-convient aux installations industrielles.
3. Besoins critiques en niveaux de gris : MLM 300
Si votre projet nécessite des niveaux de gris (sans exception-par exemple, des micro-lentilles personnalisées, des implants biomédicaux), l'UV Litho-ACA Master est conçu pour cela.
Niveaux de gris : non-facultatif (aucun compromis sur la qualité 3D).
Précision : identique à Pro+ (CD de 0,4 μm, précision de superposition de 350 nm).
Vitesse : Plus rapide que Pro+ (jusqu'à 150 mm²/min)-meilleure pour les lots légèrement plus gros.
Espace : Identique à Pro+ (2,2 m×1,7 m, 590 kg).
4. Production de masse et grands substrats : MLM 400
Pour les travaux-à volume élevé (grands écrans, cellules solaires), l'UV Litho-S donne la priorité à la vitesse et à la taille.
Vitesse : la plus rapide de notre gamme-jusqu'à 2 500 mm²/min (deux objectifs, réduit le temps de production).
Substrats : gère jusqu'à 200 mm × 200 mm (autres maximum à 150 mm × 150 mm).
Précision : 1,0 μm CD, 2,0 μm lignes/espaces (plus que suffisant pour les besoins industriels).
Espace : surface de 2,7 m × 2,3 m (1 400 kg)-idéal pour les ateliers d'usine.
5. Précision + Grands Substrats : MLM 500
Si vous avez besoin de grands substrats et d'une meilleure précision (capteurs flexibles haut de gamme), l'UV Litho-S+ est la solution idéale.
Précision : CD de 0,5 μm, lignes/espaces de 0,5 μm, précision de superposition de 250 nm (la meilleure de notre gamme).
Vitesse : jusqu'à 1 200 mm²/min (trois objectifs-plus rapides que la série ACA pour les grands substrats).
Substrats : 200 mm × 200 mm maximum (échelles sans changer de modèle).
Espace : identique à UV Litho-S (2,7 m × 2,3 m, 1 400 kg).
Aide-mémoire rapide : faites correspondre votre projet
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Type de projet |
Meilleur modèle |
Raison clé |
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Recherche en laboratoire (petits lots) |
MLM100 |
Compact+ équilibré précision/vitesse |
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Exécutions industrielles de haute-précision |
MLM200 |
Niveau de gris pris en charge par CD+ de 0,4 μm |
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Travail critique en niveaux de gris |
MLM 300 |
Niveaux de gris non-facultatifs + précision maximale |
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Production de masse (grands substrats) |
MLM400 |
Prise en charge de 2 500 mm2/min+200mmx200mm |
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Travail de précision sur de grands-substrats |
MLM500 |
Taille du CD 0,5 μm +200 mm x 200 mm |
Notes finales
Tous les modèles de notre lithographie UV sans masque incluent un changement de lentille automatisé (gain de temps !) et des certifications ISO (ISO 9001/14001/45001 pour la fiabilité). Nous proposons également des-surfaces d'exposition personnalisées extra-larges (jusqu'à 4 m²)-sur simple demande.
Le "bon" modèle n'est pas le plus cher-c'est celui qui répond à vos attentes. Vous avez des questions sur un cas d'utilisation ? Contactez-nous dès maintenant pour choisir la solution de lithographie UV sans masque la plus adaptée.
