• Four de recuit au mercure
    Cet équipement de dépôt par faisceau d'ions est un système de dépôt de couches minces de haute-précision conçu pour la préparation de fils métalliques et de couches minces à contact ohmique dans la fabrication de dispositifs infrarouges.
    Voir plus
  • Four de recuit à haute température SiC
    Le four de recuit haute température SiC est un équipement de traitement thermique spécialisé conçu pour la production de dispositifs électriques en carbure de silicium (SiC). Il est principalement utilisé pour effectuer des processus...
    Voir plus
  • Four d'oxydation à haute température SiC
    Ce four d'oxydation SiC-à haute température est un dispositif de traitement thermique spécialisé conçu pour la fabrication de semi-conducteurs en carbure de silicium. Il est principalement utilisé pour développer des couches d'oxyde de...
    Voir plus
  • Four d'épitaxie SiC
    Notre four d'épitaxie SiC est un équipement spécialisé conçu pour la croissance homoépitaxiale du 4H-SiC, un matériau de base des semi-conducteurs de troisième-génération.
    Voir plus
  • Four de traitement thermique vertical
    Notre équipement de dépôt chimique organique en phase vapeur (MOCVD) de métaux{{0}est un outil de fabrication de base dédié au dépôt de matériaux épitaxiaux de haute-qualité. Il est conçu professionnellement pour la préparation...
    Voir plus
  • Four vertical d'oxydation et de recuit
    Notre four vertical d’oxydation et de recuit est conçu pour un traitement thermique fiable dans la production de semi-conducteurs. Il gère l'oxydation, le recuit et l'alliage des plaquettes utilisées dans les circuits intégrés, les...
    Voir plus
  • Équipement RTP semi--automatique
    Cet équipement RTP semi--automatique est très pratique, capable de traiter des plaquettes de 8 à 12 pouces. L'équipement RTP semi--automatique offre un contrôle précis de la température et une très faible teneur en oxygène, ce qui le...
    Voir plus
  • Équipement RTP d'oxydation et de diffusion
    L'équipement RTP d'oxydation et de diffusion constitue un outil thermique de base pour les semi-conducteurs, regroupant les capacités d'oxydation, de diffusion et de recuit dans une seule unité. Il est conçu spécifiquement pour traiter...
    Voir plus
  • Équipement RTP d'oxydation à haute-température
    L'équipement RTP d'oxydation à haute température-de notre société est un équipement thermique de base dans la production de semi-conducteurs-à grande échelle. Il est spécifiquement conçu pour créer des films SiO₂ propres et denses sur...
    Voir plus
  • Équipement RTP à basse-température
    Équipement RTP à basse température : il offre un contrôle de température exceptionnellement précis de 250 degrés à 500 degrés, gérant efficacement le traitement thermique de matériaux tels que le niobate de lithium et le silicium.
    Voir plus
  • Équipement RTP automatique
    L'équipement RTP automatique compatible avec les tranches de 8-12 pouces, doté de conceptions à une ou deux cavités et spécialement conçu pour la production de masse. Intégrant des robots et d’autres composants, il permet un chargement,...
    Voir plus
  • Équipement RTP de bureau
    L'équipement RTP de bureau Adaptable aux-plaquettes de petite taille, l'équipement présente une conception compacte et un placement flexible. Le contrôle de la température couvre la température ambiante jusqu'à 800 degrés (thermocouple)...
    Voir plus

En tant que l’un des fabricants et fournisseurs d’équipements de traitement thermique les plus professionnels en Chine, nous nous distinguons par des produits de qualité et des prix intéressants. Soyez assuré d’acheter un équipement de traitement thermique personnalisé dans notre usine. Pour un devis et une liste de prix, contactez-nous dès maintenant.

Envoyez demande