Présentation du produit
Notre-système de lithographie par faisceau électronique est un-équipement haut de gamme conçu pour créer des motifs à l'échelle micro- et nano--nous utilisons des faisceaux d'électrons à haute-énergie pour l'écriture directe ici. En obtenant un contrôle précis sur la façon dont le faisceau d’électrons balaye et expose la surface de l’échantillon, vous pouvez réaliser une modélisation sans masque avec une très haute résolution. Il est doté d'une optique électronique avancée, d'une correction des aberrations en temps réel- et d'une imagerie multi-mode également. Tout cela en fait un incontournable-pour la R&D et la fabrication dans des domaines de pointe- : semi-conducteurs, photonique, technologie quantique, etc.
Avantages
1. Modélisation d'ultra-haute précision : elle atteint une résolution à l'échelle nanométrique--plus que suffisante pour répondre aux exigences de fabrication difficiles que vous pourriez avoir.
2. Écriture directe sans masque, flexible et efficace : pas besoin de masques physiques ici. Cela signifie que vous pouvez modifier les conceptions en temps réel, réduire considérablement le temps de développement et également économiser sur les coûts des masques.
3. Imagerie multi-mode : combine l'imagerie des électrons secondaires (SE) et des électrons rétrodiffusés (BSE). Cela vous permet d'observer et d'aligner les choses in-situ pendant que l'exposition est en cours-très pratique pour la précision.
4. Correction intelligente des aberrations : correction automatique des aberrations de déviation. Cela garantit que les motifs restent uniformes et précis, même lors de l'exposition de grandes surfaces.
5. Compatibilité élevée des processus : fonctionne avec une variété de matériaux et de types de substrats. Que vous fassiez de la R&D ou de la production en petits lots-, cela fait l'affaire.
Applications
Ce système est mis en œuvre dans un certain nombre de domaines et de processus clés, de manière assez approfondie :
1. Puces à semi-conducteurs composés : nous parlons de fabrication de structures fines-comme les portes T-dans les appareils HEMT, par exemple.
2. Puces quantiques : modélisation de composants à l'échelle nano- tels que des points quantiques et des circuits supraconducteurs ; ceux-ci sont essentiels au développement de la technologie quantique.
3. Dispositifs photoniques : travaux d'exposition pour les réseaux optiques, les métasurfaces, les cristaux photoniques -toutes les structures qui alimentent les systèmes photoniques.
4. Appareils électroniques avancés : prend en charge les besoins de modélisation pour les matériaux de faible-dimension et les nano-dispositifs, qui sont actuellement au cœur de la recherche de pointe.
5. Fabrication de masques semi-conducteurs : capable d'écrire directement pour des photomasques de haute-précision, une étape clé dans la fabrication de semi-conducteurs.
FAQ
Q : Qu'est-ce qu'un-système de lithographie par faisceau E ?
R : Un outil de haute-précision utilisant l'écriture directe par faisceau d'électrons pour la création de motifs sans masque à l'échelle nanométrique-dans la fabrication micro/nano.
Q : Quelle résolution offre-t-il ?
R : Il offre une résolution à l'échelle nanométrique-pour une création de motifs d'ultra-haute précision.
Q : Quelles sont les principales applications ?
R : Largement utilisé pour les puces semi-conductrices, les puces quantiques, les dispositifs photoniques, les nano-dispositifs et la fabrication de photomasques.
Q : Quels sont les principaux avantages ?
R : Écriture directe sans masque, grande flexibilité, ajustement de conception-en temps réel, faible coût et large compatibilité matérielle.
Q : Est-il compatible avec l'imagerie-in situ ?
R : Oui, avec imagerie SE/BSE intégrée pour-observation et alignement en temps réel pendant l'exposition.
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