Présentation du produit
Cette machine de lithographie sans masque, en termes simples, est une machine capable de graver des motifs complexes sur des matériaux sans « masque ». Elle est plus flexible et plus rentable-que la lithographie au pochoir traditionnelle, et permet des ajustements rapides des motifs, ce qui la rend adaptée à la recherche, à la production en petits lots-et à l'enseignement.
Il se décline en quatre modèles principaux :
1. La machine de lithographie sans masque version recherche est adaptée à la recherche en laboratoire, manipulant des matériaux de 6 pouces et capable de graver des motifs aussi fins que 0,4 micromètres, offrant une haute précision ;
2. La machine de lithographie sans masque version haute vitesse-est destinée à la production en petits lots-, manipulant des matériaux de 8 pouces à des vitesses exceptionnellement élevées, jusqu'à 2 500 millimètres carrés par minute ;
3. La machine de lithographie sans masque version éducative est un petit modèle de bureau, mesurant seulement 2 pouces, idéal pour l'enseignement en classe et facile à utiliser ;
4. La version ultra-grand format capable de traiter des matériaux de 2-mètres, répondant aux besoins spécifiques de traitement à grande échelle.
Qu'il s'agisse de fabriquer de minuscules composants de puces, des puces microfluidiques pour des expériences biologiques ou des démonstrations pédagogiques, il existe un modèle pour répondre à vos besoins, vous permettant d'économiser du temps et de l'argent en éliminant le besoin de masque.
Si vous souhaitez savoir comment utiliser un modèle particulier, ou quel modèle choisir pour un certain type de scénario de traitement, veuillez contacter notre société. Nous vous l'expliquons en détail à l'aide de la brochure produit.
Avantages
Conception flexible, pas besoin de masques
Précision des dimensions critiques jusqu'à 400 nm
Vitesse jusqu'à 1200 mm2 /min
Surface d'exposition jusqu'à 4 m2
Lithographie en niveaux de gris jusqu'à 4096 niveaux
Paramètres
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Modèle |
MLM100 |
MLM200 |
MLM 300 |
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Dimension critique |
0.8 μm |
0.4 μm |
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Lignes et espaces minimum |
1.0 μm |
0.8 μm |
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Vitesse d'exposition |
Objectif① : 3 mm2/min Objectif② : 20 mm2/min Objectif③ : 100 mm2/min |
Objectif① : 1 mm2/min Objectif② : 3 mm2/min Objectif③ : 20 mm2/min Objectif④ : 100 mm2/min |
Objectif① : 10 mm2/min Objectif② : 60 mm2/min Objectif③ : 150 mm2/min |
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Précision de superposition (5 mm × 5 mm) |
400 nm |
350 nm |
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Précision de superposition (50 mm × 50 mm) |
1000 nm |
700 nm |
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Longueur d'onde |
LED : 405 nm/380 nm |
LED : 405 nm/390 nm |
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Changement d'objectif automatisé |
Soutenu |
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Niveaux de gris |
Facultatif |
Soutenu |
Non-facultatif |
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Taille du substrat |
3 mm × 3 mm (min) et 150 mm × 150 mm (maximum) |
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Épaisseur du substrat |
0-10mm |
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Format des données |
GDS, DWG et DXF |
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Dimensions (L×L×H) |
750 mm × 800 mm × 700 mm |
1 150 mm × 950 mm × 2 000 mm |
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Poids |
320 kg |
590 kg |
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Exigences d'installation |
Superficie totale : 1,5 m × 1,5 m Puissance : 1,3 kW ; Température : 20 à 30 degrés ; Humidité : HR 40-60 % Alimentation : 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 10 A |
Superficie totale : 2,2 m × 1,7 m Puissance : 1,4 kW ; Température : 20 à 30 degrés ; Humidité : HR 40-60 % Alimentation : 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 10 A |
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Modèle |
MLM400 |
MLM500 |
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Dimension critique |
1.0 μm |
0.5 μm |
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Lignes et espaces minimum |
2.0 μm |
0.5 μm |
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Vitesse d'exposition |
Objectif① : 1000 mm2/min Objectif② : 2 500 mm2/min |
Objectif① : 75 mm2/min Objectif② : 300 mm2/min Objectif③ : 1200 mm2/min |
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Précision de superposition (5 mm × 5 mm) |
500 nm |
250 nm |
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Précision de superposition (50 mm × 50 mm) |
1000 nm |
500 nm |
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Longueur d'onde |
LD : 405 nm/375 nm |
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Changement d'objectif automatisé |
Soutenu |
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Niveaux de gris |
Facultatif |
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Taille du substrat |
3 mm × 3 mm (min) et 200 mm × 200 mm (maximum) |
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Épaisseur du substrat |
0-10mm |
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Format des données |
GDS, DWG et DXF |
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Dimensions (L×L×H) |
1 700 mm × 1 300 mm × 1 950 mm |
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Poids |
1400 kg |
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Exigences d'installation |
Superficie totale : 2,7 m × 2,3 m Puissance : 2,4 kW ; Température : 20 à 26 degrés ; Humidité : HR 40-60 % Alimentation : 220 V ±5 %, 50 Hz ±1 Hz, 16 A |
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FAQ
Quel est le plus grand avantage de cette machine par rapport aux machines de lithographie traditionnelles ?
Il élimine le besoin de « masques » (les modèles utilisés en lithographie traditionnelle). Les modifications de modèle sont effectuées directement dans le logiciel, ce qui permet d'économiser le coût et le temps de préparation du modèle. Cela facilite grandement la production d'essais en petits lots{{2}et la recherche sur de nouvelles conceptions.
Dans quelle mesure peut-il graver ? Les différents modèles ont-ils une précision différente ?
La précision dépend du modèle : la version de recherche peut graver jusqu'à 0,4 micromètres, la version haute-vitesse 0,5 micromètres et la version éducative 1,5 micromètres, ce qui est suffisant pour la plupart des recherches et productions quotidiennes.
Quelle taille de matériaux peut-il gérer ?
Les supports plus petits incluent la version éducative (2 pouces, environ 5 cm), la version de recherche (6 pouces) et la version haute vitesse - (8 pouces). Pour les matériaux ultra-plus grands, il existe des modèles capables de graver jusqu'à 2 mètres, adaptés aux grands capteurs et aux écrans flexibles.
À quelle vitesse est-ce ? Est-il adapté à la production en-petits lots ?
La version haute-vitesse peut graver jusqu'à 2 500 millimètres carrés par minute, ce qui est suffisant pour une production en petits-lots. La version recherche privilégie la précision, mais sa rapidité répond également aux besoins expérimentaux sans longs délais d’attente.
Outre les matériaux standards, peut-on graver des matériaux spéciaux ?
Il peut graver des diamants, des fibres optiques et même de petites pales de moteur incurvées. Il peut également être équipé d'une boîte à gants pour manipuler des matériaux sensibles à l'eau et à l'oxygène (comme les Micro-LED et les oxydes magnétiques).
Peut-il être utilisé dans l’enseignement scolaire ? Existe-t-il des modèles adaptés ?
Une version pédagogique est disponible. Il est de la taille d'un ordinateur-, facile à utiliser et idéal pour permettre aux étudiants de mettre en pratique les principes de la photolithographie. La précision de 1,5 micron est suffisante pour les expériences pédagogiques.
La source lumineuse est-elle fixe ? Peut-on le changer ?
La valeur par défaut est une lumière ultraviolette de 405 nm. Pour des besoins particuliers, d'autres longueurs d'onde (telles que 380 nm et 375 nm) peuvent être sélectionnées sans remplacer l'ensemble de l'unité.
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