Présentation du produit
Les trois équipements de pulvérisation magnétron de notre société, basés sur la technologie PVD, déposent tous des films métalliques, diélectriques et semi-conducteurs-de haute qualité, mais diffèrent par leurs applications.
Prenez le modèle industriel à chambre unique- : il est conçu pour une production à grande échelle-, avec une utilisation cible exceptionnelle qui permet de contrôler les coûts. Il gère les tranches de 8 pouces de manière transparente, répondant ainsi aux exigences de production industrielle cohérentes.
Ensuite, il existe la version industrielle à plusieurs-chambres, qui utilise des chambres modulaires et indépendantes (pensez au chauffage, à la pulvérisation, etc.) pour automatiser l'ensemble du processus de revêtement.
Cela-change la donne pour-la production en masse de films multicouches complexes-, en réduisant les interventions manuelles. La machine de qualité recherche-, quant à elle, est conçue spécifiquement pour les universités et les instituts de recherche. Il offre des configurations flexibles-comme la pulvérisation multi--cibles-pour s'adapter aux petits-travaux de R&D par lots, qu'il s'agisse de matériaux en carbure de silicium ou de prototypes de puces quantiques. Dans ces trois domaines, nous respectons notre engagement de « qualité artisanale », en veillant à ce qu'ils répondent aux besoins variés de l'industrie des semi-conducteurs.
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Applications
Les trois équipements de pulvérisation magnétron de notre entreprise ont chacun leur propre niche-couvrant ensemble tous les besoins de l'industrie des semi-conducteurs.
Prenons l'exemple du modèle industriel à chambre unique : il s'agit d'une fabrication à grande échelle-, comme celle des circuits intégrés. Pour la préparation de couches minces de tranches de 8- pouces, il est rapide et stable, s'intègre directement dans les lignes de production CMOS/IGBT et atteint les objectifs de capacité et de rendement sans accroc.
Le modèle industriel multi-chambre se distingue par une automatisation complète et une intégration solide. Ces films multicouches- complexes et délicats pour la 5G et les appareils optoélectroniques ? Il les manipule facilement, répondant aux exigences de précision strictes de la production de masse.
Ensuite, le-modèle de qualité recherche-celui-ci est adapté à la R&D universitaire. Il prend en charge les tests en petits lots-sur de nouveaux matériaux comme le carbure de silicium et agit comme une plate-forme de vérification extrêmement flexible.
Avantages
Nos trois équipements de pulvérisation magnétron apportent chacun des atouts ciblés, adaptés à des scénarios d’application distincts :
1. Modèle industriel à chambre unique :
Il obtient de gros résultats grâce à une utilisation cible élevée-qui réduit directement les coûts opérationnels. Lors du traitement de tranches de 8- pouces, il offre des performances à toute épreuve ; l'uniformité du film reste à ± 3 %, ce qui permet d'atteindre facilement les exigences de rendement industriel. De plus, sa structure simple facilite la maintenance.
2. Modèle industriel multi-chambre :
Les chambres automatisées modulaires sont son atout, augmentant considérablement l’efficacité de la production. Il dispose également d'un contrôle avancé des particules, qui garantit une -pureté de film de haut niveau-parfait pour la création de films multi-couches utilisés dans la 5G et les appareils optoélectroniques. De plus, sa forte capacité d'intégration lui permet de s'adapter de manière transparente à une large gamme de matériaux.
3. Recherche-Modèle de qualité :
Conçu dans un souci de R&D, il offre des configurations flexibles telles que la pulvérisation multicible-pour répondre aux besoins de développement de nouveaux matériaux. La précision au niveau micrométrique-offre une prise en charge fiable pour la vérification des processus, et sa-conception de traitement par lots permet de réduire les dépenses d'essais de R&D-idéales pour l'exploration en laboratoire.
Paramètres
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Article |
Modèle industriel à chambre unique- |
Modèle industriel à plusieurs-chambres |
Recherche-Modèle de qualité |
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Taille de plaquette applicable |
8 pouces et moins |
6 pouces/8 pouces |
8 pouces et moins |
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Vide ultime |
8x10-5 Pa |
2x10-5Pa |
- |
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Uniformité du film |
Inférieur ou égal à ±3% |
Inférieur ou égal à ±3% |
± 3 % (cible de 4 pouces, plaquette de 8 pouces) |
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Contrôle de la température de l'étape du substrat |
RT-650 degrés (ou refroidissement) |
- |
RT-600 degrés (chauffage ou refroidissement) |
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Vitesse de rotation de l'étage de substrat |
- |
- |
5-20 tr/min |
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Méthode de pulvérisation |
Pulvérisation à cible unique- |
- |
Pulvérisation séquentielle/co-à cible unique/à cible multiple- |
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Alimentation |
DC/RF/MF en option |
- |
DC/RF/MF en option |
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Configurations clés |
Chambre de traitement unique ; Inférieur ou égal à 4 canons cibles |
Inférieur ou égal à 5 chambres de traitement (chauffage, refroidissement, pulvérisation, etc.) |
Pulvérisation multicible- : pré-chambre à vide (facultatif) ; |
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Matériaux applicables |
Silicium, composés, céramiques, etc. |
Silicium, composés, etc. |
Métaux (Al, Au, Cu), diélectriques (SiO2, TaN), semi-conducteurs |
FAQ
Comment choisir parmi les trois modèles ?
Pour la production en série de plaquettes de 8-pouces (par exemple, CMOS/IGBT), choisissez le modèle industriel à cavité unique- ; pour les films multicouches complexes en 5G/optoélectronique, choisir le modèle industriel multi-cavités ; pour la recherche et le développement de nouveaux matériaux dans les universités (par exemple, le carbure de silicium), choisissez le modèle de recherche.
Est-il compatible avec le revêtement de matériaux sans -silicium- ?
Oui, il prend en charge tout, couvrant les céramiques, les semi-conducteurs composés, les métaux (Al/Au), les diélectriques (SiO₂), etc.
La taille de la plaquette peut-elle être agrandie ?
La valeur par défaut est de 8 pouces et moins (6-8 pouces pour le modèle multi-cavité). Une expansion à petite échelle peut être personnalisée à l’avance, mais la faisabilité du processus doit être évaluée.
Quelles sont les conditions de test pour l'uniformité de l'épaisseur du film inférieure ou égale à ± 3 % ?
Basé sur des tranches de 8 pouces (plaque cible de 4 pouces + 8- pouces pour le modèle de recherche), test standard de couche de film métallique/diélectrique. L'optimisation est possible pour différentes épaisseurs de matériaux/films.
Une formation à l'installation est-elle fournie ?
Nous proposons-l'installation et la mise en service sur site, ainsi qu'une formation au fonctionnement/maintenance pour garantir que l'équipe puisse démarrer rapidement.
L'équipement peut-il être amélioré ultérieurement ?
Les modèles multi-cavités et de recherche peuvent être mis à niveau avec des canons cibles/des chambres à pré-vide ; Les modèles à cavité unique-ont un potentiel de mise à niveau limité. Nous vous recommandons donc de définir clairement les besoins à long-terme dès le départ.
Quelle est la durée du cycle de livraison ? Est-ce que cela peut être accéléré ?
Modèles de recherche/cavité simple- : 8-12 semaines ; modèles multi-cavités : 12-16 semaines ; la livraison accélérée est négociable et dépend de la planification de la ligne de production.
Existe-t-il des réductions sur les coûts de maintenance après-production ?
Principalement pour les matériaux cibles et les consommables. Les consommables sont proposés avec une remise supérieure ou égale à 10 % pendant 5 ans après la période de garantie. Nous fournissons également des conseils de maintenance pour réduire les coûts.
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