Présentation du produit
Les évaporateurs à faisceau d'électrons de Nice-tech sont une série d'équipements PVD (dépôt physique en phase vapeur) hautes-performances développés pour divers besoins de production industrielle et de recherche scientifique. Couvrant la production de masse au niveau des plaquettes, le revêtement de pièces de grande taille, la R&D en petits lots et les scénarios de processus spécialisés, la gamme de produits comprend plusieurs modèles tels que EBE 700, EBE 600 / EBE 600P, EBE 500, EBE 400, EBE300 / EBE300P, EBE 200 / EBE 200P, EBE. 100. Chaque système intègre une technologie avancée de revêtement sous vide et des composants de base de classe mondiale - (de marques comme Edwards, Pfeiffer et MKS), associés au système de contrôle entièrement automatique - développé par VKOS, garantissant un dépôt de film stable, fiable et efficace.
La série de produits présente des conceptions structurelles flexibles-y compris des configurations à une-chambre, à double-chambre et compactes-pour s'adapter aux différentes exigences d'espace et de processus. Les indicateurs de performance clés se démarquent : une uniformité du revêtement aussi précise que ±2 % (la plupart des modèles) et ±3 % (modèles compacts), un vide ultime atteignant 1E-5Pa à 2E-5Pa et des plages de contrôle de température allant de -50 degrés à 500 degrés (ou RT à 500 degrés) pour répondre aux besoins de dépôt de divers matériaux. Qu'il s'agisse d'une production de masse au niveau d'une tranche, d'une préparation de films multicouches complexes ou d'une vérification R&D en laboratoire, les systèmes d'évaporation par faisceau d'électrons de Vikaitech offrent des solutions sur mesure.
Avantages
- Qualité de film supérieure et haute cohérence
- Des modèles diversifiés pour des besoins ciblés
- Haute automatisation et maintenance facile
- Forte compatibilité et personnalisation
- Configurations de base fiables
Applications
- Semi-conducteurs et microélectronique
- Optoélectronique et communication optique
- Détection aérospatiale et infrarouge
- Biomédecine et nouveaux matériaux
- Production industrielle de masse
- Recherche scientifique et universités
Paramètres
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Article |
EBE 700 (type de production de masse haut de gamme) |
EBE 600/EBE 600P (type de production à double chambre-) |
EBE 500 (type universel à double chambre-) |
EBE 400 (type R&D à double chambre-) |
EBE300 /EBE 300P (Production Type de chambre simple- |
EBE 200 /EBE 200P (type universel à chambre unique) |
EBE 100 (type compact) |
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Uniformité du revêtement |
±2% |
±3% |
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Répétabilité du revêtement |
±2% |
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Vide ultime |
2E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
2E-5Pa |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
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Plage de contrôle de la température |
TA ~ 200 degrés |
TA ~ 300 degrés |
TA ~ 500 degrés |
TA ~ 500 degrés |
TA ~ 300 degrés |
TA ~ 500 degrés |
-50 degrés ~ 500 degrés |
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Zone de dépôt uniforme |
Niveau de plaquette-(8 pouces et plus pour la production de masse) |
Pièces à usiner-de grande taille (inférieures ou égales à 1 000 mm × 1 000 mm) |
Taille universelle (adaptée à la production et à la R&D) |
Pièces en petits lots-à-de taille moyenne (R&D et production à petite-échelle) |
Pièces à usiner-de grande taille (inférieures ou égales à 1 000 mm × 1 000 mm) |
Ø300 mm maximum (plaquette/pièce) |
Laboratoire-Échelle de petite taille (inférieure ou égale à Ø 150 mm) |
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Type de chambre |
Chambre unique (niveau de plaquette- entièrement automatique) |
Chambre double (type de production, chambre de traitement indépendante) |
Double chambre (type universel, verrouillage de charge mutuel) |
Chambre double (type R&D, verrouillage de charge de la chambre supérieure-inférieure) |
Chambre unique (type de production, grande chambre) |
Chambre unique (type universel, chambre standard) |
Chambre unique (type compact, petite chambre) |
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Système de chargement |
Transfert automatique de plaquettes |
Transfert automatique de robots |
Verrouillage automatique de la charge simple/multi-plaquette |
Verrouillage automatique de la charge simple/multi-plaquette |
Transfert automatique de robots |
Chargement manuel/semi--automatique |
Chargement manuel (portable) |
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L×W×H(m) |
8.5×5.5×3.3 |
4.4×4.1×2.6 |
4.0×3.1×2.9 |
3.0×2.5×2.2 |
4.05×3.9×2.8 |
3.35×2.8×2.2 |
3.15×2.4×2.2 |
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Poids net (environ) |
12000kg |
8500 kg |
6800 kg |
4200 kg |
7200 kg |
5500 kg |
3800 kg |
FAQ
Q : Quelle est l'application principale ?
R : Dépôt de couches minces-de haute précision-pour la R&D sur les semi-conducteurs, l'optoélectronique, l'aérospatiale, la biomédecine et les nouveaux matériaux.
Q : Quels matériaux sont compatibles ?
A : Métaux (Al, Au), diélectriques (SiO₂), semi-conducteurs, composés, céramiques ; T360 optimisé pour le dépôt d'indium.
Q : Spécifications de performances clés ?
A : Uniformité du revêtement ±2 % (modèles de production)/±3 % (R&D/compact) ; répétabilité ±2% ; vide ultime 1E-5Pa~2E-5Pa.
Q : Les configurations peuvent-elles être mises à niveau ?
R : Oui,-ajoutez des sources d'ions, des-chambres à vide préalables, des appareils ou des verrous de chargement automatiques (en fonction du modèle-).
Q : Installation et formation incluses ?
R : Installation/mise en service sur site {{0} + formation à l'exploitation/maintenance ; guidage à distance disponible.
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